1923 | im dänischen Sønderborg geboren |
1941/42 | in Gestapo-Haft in das Konzentrationslager Fuhlsbüttel |
1938-40 | kaufmännische Lehre in Hamburg |
1946 | Privatschüler bei dem Maler Ewald Becker-Carus in Hamburg |
1947-49 | Studium an der Landeskunstschule in Hamburg bei Willem Grimm und Maria May |
1950 | Experimente mit verschiedenen Tuschetechniken |
1951 | er nimmt den Künstlernamen Sonderborg an |
1953 | Mitglied der Künstlergruppe "ZEN 49" |
1958 | Teilnahme an der Biennale in Venedig; Umzug nach Paris |
1959 | Teilnahme an der documenta II |
1960 | Preis für Druckgrafik der Biennale in Tokio |
1963 | Großen Internationalen Preis für Zeichnung auf der Biennale in São Paulo |
1964 | Teilnahme an der documenta III |
1965 | Umzug nach Stuttgart |
1965-1990 | Professor für Malerei an der Staatlichen Akademie der Bildenden Künste Stuttgart mit Unterbrechungen (Beurlaubungen) |
1969/70 | Gastprofessor am Minneapolis College of Art and Design |
ab 1980 | vier Jahre Prorektor der Stuttgarter Akademie |
1986 | Gastprofessor am Art Institute in Chicago |
1988 | Hans-Moltener-Preis |
2008 | in Hamburg gestorben |
Großstadtimpressionen, ausgelöst durch Aufenthalte in Paris, London und New York, Umweltgeräusche und der Jazz - sein Vater ist Jazzmusiker - spielen bei Sonderborg eine zentrale Rolle. Seit Anfang der fünfziger Jahre kommt Sonderborg mit dem amerikanischen Action Painting in Berührung. Mit spontanem Farbauftrag erreicht er die Darstellung eines strukturellen Gefüges, das Form im Zustand des Werdens sichtbar macht. Damit ist Sonderborgs Werk der amerikanischen gestischen Malerei weit näher als dem europäischen Informel.
Neben Gerhard Hoehme, K. O. Götz, Bernhard Schulze, Hann Trier und Peter Brüning gehört Karl Rudolf Hoffmann aus Sonderborg (Dänemark) zu den bedeutendsten und kraftvollsten Vertretern der deutschen informellen Malerei. Mal- und Zeichenprozess hinterlassen sichtbare Spuren. Seine Bildfindungen transformieren Materie durch die Schnelligkeit und rasante Kraft des Auftrags in Energie, die auch vor den Lithografien und Radierungen spürbar bleibt.